蒋尚义回归中芯国际后首次亮相 谈摩尔定律接近物理极限

来源:快科技  作者:整理  日期:2021-01-16 23:21:27

2020年12月15日晚,蒋尚义回归中芯国际,担任第二类执行董事、董事会副董事长、战略委员会成员,一度引发“内讧”,联席CEO梁孟松当即辞职,两位曾在台积电共事的行业大牛闹得水火不容。蒋尚义2016年底首次加盟中芯国际,担任第三类独立非执行董事,2019年6月离开中芯国际,任武汉弘芯CEO,但项目烂尾,仅仅1年后离职。

中芯国际内部如何处理蒋尚义、梁孟松的矛盾,不为外界所知,但从目前的情况看,二人之间的矛盾应该已经化解,目前都在正常履职。

1月16日,蒋尚义出席第二届中国芯创年会,并发表演讲,这也是蒋尚义回归中芯国际之后,首次公开亮相。

这一次,蒋尚义主要提出了五个要点:

1、摩尔定律的进展已接近物理极限,目前的生态环境已不适用。

2、封装和电路板技术进展相对落后,渐成系统性能的瓶颈。

3、只有极少数需求量极大的产品才能使用最先进的硅工艺。

4、先进工艺一定会走下去,先进封装是为后摩尔时代布局的技术,中芯国际在先进工艺和先进封装方面都会发展。

5、后摩尔时代的发展趋势是研发先进封装和电路板技术,也就是集成芯片,可以使芯片之间连接的紧密度和整体系统性能类似于单一芯片。

上述观点,也与台积电、Intel、AMD等半导体行业巨头目前的做法和未来的规划颇有英雄所见略同的味道。

此前还曾有消息称,蒋尚义回归中芯国际后,将主要负责小芯片(chiplet)的开发工作,并与ASML展开新的谈判,促使EUV极紫外光刻机早日到来。

而梁孟松的专长,则在于先进工艺的研发,中芯国际14nm工艺、N 1工艺都离不开他的汗马功劳,他本人也曾透露,中芯国际的7nm技术研发已经完成,今年4月就可以风险量产,5nm、3nm最关键、最艰巨的8大项技术也已有序展开,只等EUV光刻机到来。

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