返回
当前位置:首页>观察>正文

Intel CPU芯片工厂已有多台EUV生产设备 数量保密

来源:快科技  作者:整理  日期:2022-02-17 15:13:45

过去几年中Intel在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星,一个重要原因就是没有及时跟进EUV工艺,让两家对手抢先量产了7nm、5nm等工艺,不过Intel这一年来变化很大,也对EUV光刻工艺上心了,加速推进新工艺量产。

Anandtech网站的核心编辑Ian Cutress日前受邀参观了Intel在俄勒冈州的D1X工厂,他表示在那里看到了一些EUV生产设备,不过具体有多少就不能说了,显然这是Intel的商业机密,不能对外透露。

1月底,Intel宣布了一批EUV设备进厂,不过当时进场安装的是欧洲爱尔兰的Fab 34晶圆厂,那是一台光刻胶显影设备(lithography resist track),将与EUV极紫外扫描仪搭档,首先为硅晶圆覆上精密的涂层,然后进入EUV扫描仪,进行曝光,接着晶圆回到光刻设备,再进行一系列的高精密光显影、清理操作。

爱尔兰的Fab 34晶圆厂未来会量产Intel 4工艺,也就是之前的7nm工艺,这是Intel首个使用EUV光刻机的工艺,2023年的14代酷睿Metor Lake处理器会首发该工艺。

不过Intel在EUV光刻机上的野心很大,重点会放在下一代EUV光刻机上,已经抢先订购了NA 0.55高数值孔径EUV光刻机,据说成本高达3亿美元,约合19亿元。

相比目前NA 0.33的EUV光刻机,Intel购买的新一代光刻机可以量产更先进的CPU工艺,未来的20A、18A工艺都会用上,最快2025年量产。

分类:观察
标签:CPU芯片
编辑:tmt
版权声明:除非特别标注,否则均为本站原创文章,转载时请以链接形式注明文章出处。文章版权归原作者所有,内容不代表本站立场!
免责声明: 阁下应知本站所提供的内容不能做为操作依据。本站作为信息内容发布平台,不对其内容的真实性、完整性、准确性给予任何担保、暗示和承诺,仅供读者参考! 如文中内容影响到您的合法权益(含文章中内容、图片等),请及时联系本站,我们会及时删除处理。